北京北方微電子基地設備工藝研究中心有限責任公司，作為國內領先的高端半導體裝備制造企業，我們所開發的刻蝕設備(ETCH)、化學氣相沉積設備(CVD)、物理氣相沉積設備(PVD)等核心產品已廣泛應用于集成電路(Semiconductor)、半導體照明(LED)、微機電系統(MEMS)、功率半導體(Power IC)、先進封裝(Advanced Packaging)、光通信(Optical Communication)及化合物半導體(Compound Semi)等尖端領域。北方微電子經過十余年的發展，形成了刻蝕工藝、薄膜工藝、等離子技術、精密機械、自動化及軟件、超高真空等核心技術優勢，為微電子產業的快速發展提供了值得信賴的產品和服務。秉承科技創新，用戶至上的理念，北方微電子正致力于成為一家具有國際影響力的高端裝備及工藝解決方案提供商。
等離子刻蝕 ETCH
♦ 等離子干法刻蝕技術是利用等離子體進行薄膜微細加工的技術。在典型的干法刻蝕工藝過程中，一種或多種氣體原子或分子混合于反應腔室中，在外部能量作用下(如射頻、微波等)形成等離子體：一方面等離子體中的活性基團與待刻蝕表面材料發生化學反應，生成可揮發產物;另一方面等離子體中的離子在偏壓的作用下被引導和加速，實現對待刻蝕表面進行定向的腐蝕和加速腐蝕。干法刻蝕工藝過程是化學反應作用和物理轟擊作用的結合。相比于傳統的濕法刻蝕技術，干法刻蝕技術由于具有良好的各向異性和工藝可控性已被廣泛應用于微電子產品制造領域，如今更是逐漸擴展到LED、封裝等泛IC領域。
♦ 北方微電子憑借在半導體領域十余年的干法刻蝕產品開發經驗和工藝技術，為集成電路、半導體照明、微機電系統、先進封裝、光波導等領域提供各種類型的生產和研發的刻蝕系統，滿足客戶多種制造工藝需求。
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