MiniLED新賽道崛起，NAURA迎風啟航
# 電力電子產業網 2020-09-10 09:45 來源： 北方華創
?MiniLED、MicroLED在近期成為了市場熱詞，諸多上市公司的年報中將2020年視為“Mini/MicroLED元年”。未來，4K、8K電視的市場擴張也將進一步帶動LED顯示技術的需求。作為新一代高清晰度終端顯示技術，MiniLED芯片應用已成為行業熱點，圍繞它的一系列技術瓶頸也急需實現突破，從而帶動LED芯片產業的新一輪高速增長。??作為一種新型的LED顯示方案，MiniLED在技術方面日趨成熟。基于更小的芯粒尺寸（~100μm）制作需求，MiniLED芯片在工藝方面需要更好的一致性、更高的顆粒控制能力和更優的膜層質量。與傳統LED芯片在制程方面存在的差異，是機遇也是挑戰，而更先進的技術最終要落腳于更先進的設備。??北方華創近年來始終著力于開發更優性能、更大產能、更智能化的MiniLED設備。基于MiniLED芯片制作對設備性能的需求，NAURA積極布局相關設備研發，涵蓋藍綠光與紅黃光芯片工藝，主要產品包括ICP刻蝕機、PECVD、PVD（AIN sputter、Metal sputter、ITO sputter）、ALD等一系列設備。ELEDE? G380A
??NAURA LED ICP刻蝕設備（ELEDE? G380A）在傳統ICP刻蝕設備的基礎上，對上、下電極系統及設備加熱控溫系統進行了優化設計，實現了刻蝕均勻性的有效提升，完全滿足MiniLED芯片的均勻性及邊緣利用率要求。此設備適用于MiniLED多種材料刻蝕，覆蓋藍綠、紅黃芯片全流程，包括深槽隔離刻蝕（Isolation）、電極刻蝕（Mesa）、介質反射層刻蝕（DBR）及紅黃光刻蝕（AlGaInP），具有精準的線寬控制和高速刻蝕能力，可實現穩定量產并具備優異的刻蝕均勻性。設備配置了Cassette in Cassette out自動生產模式，可達到更好的顆粒控制能力。EPEE i800
??NAURA LED PECVD設備（EPEE i800）采用托盤載片和多站動態作業模式，為MiniLED芯片制造提供了優良的PECVD工藝解決方案。NAURA通過對鍍膜方式進行改進，實現了更優的片內和片間鍍膜均勻性；通過對反應腔上、下電極系統的優化設計，實現了更大的單機產能輸出。EPEE i800設備的鍍膜均勻性、顆粒控制能力以及自動化程度明顯提升，可實現工廠端自動化生產，完全滿足MiniLED對芯片制造的要求。??ELEDE? G380A與EPEE i800等設備不僅能滿足新一代MiniLED制程，還可應用于未來MicroLED制程的研發，其跨世代的工藝能力是客戶技術發展及創新的一大助力。??NAURA還可提供對接廠務MES系統或者其他廠務自動化軟件的解決方案；全流程自動化解決方案可幫助客戶實現生產過程的無人化、信息化和智能化管理。??隨著LED顯示技術和產品的不斷創新，新技術的每一次超越與落地，對于行業發展來說都具有重大意義，NAURA愿與業界同仁一起在半導體顯示技術領域銳意進取、開拓創新，共譜新篇章。
